Podrobnosti návrhu

Číslo:47/2976/CDV - IEC 63567-1 ED1
Zdroj:ISO\IEC\CEN\CENELEC
Komise:IEC/TC 47
Název komise:Semiconductor devices
Návrh uveřejněn:16.12.2025
K připomínkám do:13.02.2026
Oblast zaměření:Polovodiče
Contact email:aslana(at)agentura-cas.cz
Anotace:

This part of IEC 63567-1 proposes a method of measuring the transmittance of extreme ultraviolet (EUV) pellicle used for extreme ultraviolet lithography (EUVL) and provides guidelines on the conditions of the transmittance measurement instrument using EUV with a short wavelength and methods for calculating EUV transmittance.

The scope of this document applies to all types of membranes attached to the front side of a reflective mask (or reflective reticle) used in EUVL to physically protect the reflective mask from contaminant particles generated inside the chamber during EUV exposure.

Tento dokument můžete připomínkovat po jednotlivých částech  - stačí u příslušné části dokumentu vyplnit formulář v souladu s pokyny a kliknout na ‚Odeslat připomínku‘.

Prosíme, nepoužívejte vulgární výrazy a nevyužívejte tento prostor pro umisťování reklamy.